檢測(cè)項(xiàng)目

碳化硼成分檢測(cè)體系包含三大核心模塊：

主成分分析：測(cè)定B₄C中硼（B）與碳（C）的摩爾比及總含量

雜質(zhì)元素檢測(cè)：定量分析Fe、Al、Si等金屬雜質(zhì)及O、N等非金屬夾雜物

晶體結(jié)構(gòu)表征：解析晶格參數(shù)、相組成及缺陷密度

物理性能關(guān)聯(lián)測(cè)試：包括密度測(cè)量（理論密度≥2.52g/cm3）、顯微硬度（HV≥30GPa）等

檢測(cè)范圍

覆蓋全形態(tài)碳化硼材料及其制品：

原料粉末：粒徑分布（D50:0.5-10μm）、比表面積（1-15m2/g）

燒結(jié)陶瓷：相對(duì)密度（92-99%TD）、晶界相組成

復(fù)合材料

涂層體系：結(jié)合強(qiáng)度（≥15MPa）、厚度均勻性（±5μm）

核用中子吸收體：¹⁰B同位素豐度（≥19.8%）

檢測(cè)方法

依據(jù)ISO 21061、ASTM C1239等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施：

化學(xué)分析法

高溫燃燒紅外法測(cè)定總碳量（精度±0.05wt%）

堿熔-ICP法測(cè)定硼含量（RSD≤1.2%）

光譜技術(shù)

GD-MS測(cè)定痕量金屬雜質(zhì)（檢出限0.1ppm）

LECO氧氮聯(lián)測(cè)儀測(cè)定O/N含量（精度±5ppm）

結(jié)構(gòu)表征法

XRD全譜擬合Rietveld精修（角度分辨率0.02°）

TEM電子衍射分析晶格畸變（點(diǎn)分辨率0.19nm）

檢測(cè)儀器

標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室配置包含：

元素分析系統(tǒng)

高頻紅外碳硫儀（測(cè)量范圍0.001-6.000%）

全譜直讀ICP-OES（波長(zhǎng)范圍165-900nm）

結(jié)構(gòu)分析設(shè)備

高分辨X射線衍射儀（Cu Kα,40kV/40mA）

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（分辨率1.0nm@15kV）

專用測(cè)試裝置

熱膨脹儀（室溫-1600℃,ΔL/L₀精度±0.1%）

激光粒度分析儀（測(cè)量范圍0.01-3500μm）

檢測(cè)報(bào)告作用用作

銷售報(bào)告：出具正規(guī)第三方檢測(cè)報(bào)告讓客戶更加信賴自己的產(chǎn)品質(zhì)量，讓自己的產(chǎn)品更具有說(shuō)服力。

研發(fā)使用：擁有優(yōu)秀的檢測(cè)工程師和先進(jìn)的測(cè)試設(shè)備，可降低了研發(fā)成本，節(jié)約時(shí)間。

司法服務(wù)：協(xié)助相關(guān)部門檢測(cè)產(chǎn)品，進(jìn)行科研實(shí)驗(yàn)，為相關(guān)部門提供科學(xué)、公正、準(zhǔn)確的檢測(cè)數(shù)據(jù)。

大學(xué)論文：科研數(shù)據(jù)使用。

投標(biāo)：檢測(cè)周期短，同時(shí)所花費(fèi)的費(fèi)用較低。

準(zhǔn)確性較高;工業(yè)問(wèn)題診斷：較短時(shí)間內(nèi)檢測(cè)出產(chǎn)品問(wèn)題點(diǎn)，以達(dá)到盡快止損的目的。

我們的承諾

　　北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所承諾：我們將根據(jù)不同產(chǎn)品類型的特點(diǎn)，并結(jié)合不同行業(yè)和國(guó)家的法規(guī)標(biāo)準(zhǔn)，選擇適當(dāng)?shù)臋z測(cè)項(xiàng)目和方法進(jìn)行分析測(cè)試，或根據(jù)您的要求進(jìn)行試驗(yàn)分析。為了不斷改進(jìn)我們的工作，我們致力于提高產(chǎn)品質(zhì)控分析、使用性能檢測(cè)能力，并持續(xù)加強(qiáng)我們團(tuán)隊(duì)的科研技術(shù)。同時(shí)，我們將積極跟進(jìn)新的技術(shù)和標(biāo)準(zhǔn)，以最大程度地滿足您的需求和市場(chǎng)要求。