芯片開封測(cè)試(IC-Decapping)

2025-05-16 14:10:25

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摘要:芯片開封測(cè)試(IC-Decapping)是集成電路失效分析與逆向工程的關(guān)鍵技術(shù)之一,通過(guò)去除芯片封裝材料暴露內(nèi)部結(jié)構(gòu)以實(shí)現(xiàn)微觀檢測(cè)。核心檢測(cè)要點(diǎn)包括封裝材料去除精度、內(nèi)部電路保護(hù)完整性及顯微成像清晰度。該測(cè)試需結(jié)合化學(xué)腐蝕、機(jī)械研磨及顯微觀測(cè)技術(shù),確保在不損傷芯片功能層的前提下獲取有效數(shù)據(jù)。
因業(yè)務(wù)調(diào)整,部分個(gè)人測(cè)試暫不接受委托,望見諒。
檢測(cè)項(xiàng)目
芯片開封測(cè)試主要服務(wù)于集成電路的物理層分析需求,包含以下核心檢測(cè)項(xiàng)目:
- 失效分析:定位短路/斷路/漏電等電氣故障的物理成因
- 結(jié)構(gòu)驗(yàn)證:確認(rèn)晶圓代工工藝與設(shè)計(jì)版圖的一致性
- 工藝檢查:評(píng)估金屬互連層/鈍化層/焊盤結(jié)構(gòu)的完整性
- 逆向工程:提取電路布局與晶體管級(jí)結(jié)構(gòu)參數(shù)
- 材料分析:識(shí)別封裝樹脂/粘接劑/填充物的成分特性
檢測(cè)范圍
本測(cè)試技術(shù)適用于各類集成電路器件:
- 器件類型:邏輯芯片/存儲(chǔ)芯片/模擬芯片/功率器件
- 封裝形式:DIP/QFP/BGA/CSP/WLCSP等標(biāo)準(zhǔn)與先進(jìn)封裝
- 工藝節(jié)點(diǎn):涵蓋180nm至5nm制程的CMOS/BiCMOS工藝器件
- 應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體制造過(guò)程監(jiān)控/電子設(shè)備故障診斷/知識(shí)產(chǎn)權(quán)驗(yàn)證
檢測(cè)方法
根據(jù)被測(cè)器件特性選擇適配的開封方法組合:
- 化學(xué)開封法:采用發(fā)煙硝酸/濃硫酸混合溶液進(jìn)行分層腐蝕(溫度控制精度2℃)
- 機(jī)械開封法:使用金剛石切割刀片進(jìn)行精密切削(定位精度≤5μm)
- 激光開封法:飛秒激光燒蝕非金屬封裝材料(波長(zhǎng)1030nm/脈沖寬度350fs)
- 等離子體開封法:CF4/O2混合氣體干法刻蝕(射頻功率200-500W)
檢測(cè)儀器
標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室需配置以下科學(xué)設(shè)備系統(tǒng):
- 化學(xué)工作站:配備酸霧凈化裝置的恒溫腐蝕平臺(tái)(耐腐蝕等級(jí)IP65)
- 精密研磨機(jī):三軸數(shù)控研磨系統(tǒng)(主軸轉(zhuǎn)速50-5000rpm可調(diào))
- 激光開封設(shè)備:紫外-紅外雙波段激光加工系統(tǒng)(光斑直徑≤15μm)
- 顯微觀測(cè)系統(tǒng):配備長(zhǎng)工作距物鏡的金相顯微鏡(最大放大倍數(shù)1500X)
- 輔助分析設(shè)備:掃描電子顯微鏡(分辨率≤3nm)/X射線能譜儀(元素分析范圍B-U)
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