檢測項目

硅元素定量分析包含總硅含量測定、游離二氧化硅檢測及硅化合物形態(tài)分析三大核心指標。工業(yè)級硅純度檢測需滿足GB/T 14849.1-2015標準要求純度≥99.0%，冶金材料依據ISO 439:2020測定硅當量值。環(huán)境樣品中可溶性硅酸鹽的測定執(zhí)行HJ 802-2016標準方法。半導體晶圓表面硅晶格缺陷檢測采用SEM-EDS聯用技術實現納米級定位分析。

檢測范圍

本檢測適用于八大類材料體系：①冶金行業(yè)生鐵/鑄鋼/鋁合金（Si含量0.1%-25%）；②光伏級多晶硅（純度99.9999%以上）；③電子級硅片（表面金屬污染≤1E10 atoms/cm2）；④建筑玻璃中SiO?組分（常規(guī)占比70-75%）；⑤橡膠制品白炭黑補強劑；⑥水處理劑聚硅酸鹽混凝劑；⑦地質樣品石英礦物相分析；⑧生物體硅沉積病理檢測。

檢測方法

1. X射線熒光光譜法：依據GB/T 20975.25-2020標準，采用Rh靶X光管（50kV/60mA）激發(fā)樣品，通過Si-Kα特征峰（1.739keV）進行定量，檢出限達0.01wt%，適用于塊狀金屬樣品快速篩查。

2. 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法：按ASTM E1621-21規(guī)程，使用軸向觀測模式采集251.611nm譜線，配備高鹽霧化器處理高基體樣品，線性范圍0.05-1000mg/L。

3. 分光光度法：基于鉬藍顯色反應（GB/T 223.5-2008），在810nm波長測定吸光度，適用于低濃度（0.001-0.5mg/L）溶液樣品。

4. 重量法：高溫灼燒后氫氟酸處理失重計算SiO?含量（ISO 3269:2021），精度±0.2%，用于耐火材料等高硅體系。

檢測儀器

1. 波長色散X射線熒光光譜儀：配備4kW薄窗X光管及PET分光晶體，配備真空系統(tǒng)（<10Pa）保障輕元素檢測靈敏度。

2. 全譜直讀ICP-OES：配置中階梯光柵交叉色散系統(tǒng)（分辨率≤0.006nm），標配自動進樣器和耐氫氟酸霧室。

3. 微波消解儀：采用高壓密閉消解罐（最高260℃/80bar），支持氫氟酸體系樣品前處理。

4. 同步熱分析儀：聯用TGA-DSC模塊實現硅烷熱分解過程監(jiān)測（升溫速率0.1-100K/min）。

5. 場發(fā)射掃描電鏡：配備超大面積SDD探測器（分辨率127eV），實現微區(qū)硅元素面分布分析。

檢測報告作用用作

銷售報告：出具正規(guī)第三方檢測報告讓客戶更加信賴自己的產品質量，讓自己的產品更具有說服力。

研發(fā)使用：擁有優(yōu)秀的檢測工程師和先進的測試設備，可降低了研發(fā)成本，節(jié)約時間。

司法服務：協助相關部門檢測產品，進行科研實驗，為相關部門提供科學、公正、準確的檢測數據。

大學論文：科研數據使用。

投標：檢測周期短，同時所花費的費用較低。

準確性較高;工業(yè)問題診斷：較短時間內檢測出產品問題點，以達到盡快止損的目的。

我們的承諾

　　北京中科光析科學技術研究所承諾：我們將根據不同產品類型的特點，并結合不同行業(yè)和國家的法規(guī)標準，選擇適當的檢測項目和方法進行分析測試，或根據您的要求進行試驗分析。為了不斷改進我們的工作，我們致力于提高產品質控分析、使用性能檢測能力，并持續(xù)加強我們團隊的科研技術。同時，我們將積極跟進新的技術和標準，以最大程度地滿足您的需求和市場要求。