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粒狀分子篩粒度測定的核心項目包括:粒徑分布曲線繪制、平均粒徑計算、粒度分布范圍測定以及特征粒徑值(D10/D50/D90)標定。其中D50作為中位粒徑指標直接反映整體顆粒分布特征;D10和D90分別表征細顆粒與粗顆粒的臨界值邊界。同步開展球形度分析與表面粗糙度評估可輔助判斷顆粒形態(tài)對吸附性能的影響。
本測定方法適用于3A/4A/5A型分子篩及ZSM-5等沸石類吸附材料的粒度分析:1.常規(guī)工業(yè)級分子篩:粒徑范圍0.5-5.0mm2.精密催化用分子篩:粒徑范圍20-200μm3.特殊形態(tài)顆粒:包括球形、條形及破碎型不規(guī)則顆粒4.改性處理樣品:經(jīng)表面涂層或離子交換處理的二次加工產(chǎn)品
激光衍射法(ISO13320)采用Mie散射理論進行非接觸式測量:1.樣品分散:使用干法分散裝置控制氣壓0.2-0.5MPa2.光學(xué)采集:設(shè)置探測器掃描頻率≥1kHz3.數(shù)據(jù)分析:基于Fraunhofer模型計算體積分布誤差控制要求重復(fù)測量RSD≤3%
機械篩分法(ASTME11)適用于毫米級顆粒的快速分級:1.標準篩組配置:按R20/3系列等比設(shè)置篩孔尺寸2.振動參數(shù)設(shè)定:振幅1-3mm,頻率50Hz5%3.稱量精度要求:電子天平分辨率0.001g累計篩余量誤差應(yīng)控制在2%以內(nèi)
動態(tài)圖像分析法(ISO13322-2)實現(xiàn)形態(tài)學(xué)參數(shù)同步測量:1.高速相機配置:幀率≥200fps2.背光系統(tǒng)校準:亮度均勻性>95%3.算法處理:采用邊緣檢測與橢圓擬合技術(shù)球形度測量精度需達0.05
激光粒度分析儀配備532nm/650nm雙波長光源系統(tǒng),測量范圍0.1-3500μm。具備自動對焦校正功能與溫控樣品池(0.5℃),符合ISO13320對光學(xué)系統(tǒng)的基線噪聲要求(<0.5%)。
電磁驅(qū)動試驗篩機含直徑200mm標準篩框8層套組,時間繼電器精度1s/h。配備氣密式樣品收集裝置與防靜電涂層篩網(wǎng)(孔徑公差符合ASTME11Class1標準)。
動態(tài)顆粒圖像系統(tǒng)集成5MP高速CMOS傳感器與EDM脈沖分散模塊。內(nèi)置ISO圓形度算法庫與ASTMD8091標準分析模板,可同步輸出Feret徑/Martin徑等12種形態(tài)參數(shù)。
真空干燥預(yù)處理設(shè)備配置分子渦輪泵組實現(xiàn)10-3Pa真空度控溫干燥倉(50-150℃可調(diào)),滿足ISO787-2規(guī)定的樣品預(yù)處理要求。
數(shù)據(jù)采集工作站運行科學(xué)粒度分析軟件平臺(符合21CFRPart11規(guī)范),具備多模型擬合功能與原始數(shù)據(jù)追溯模塊。支持Rosin-Rammler/Log-normal等分布模型自動匹配
銷售報告:出具正規(guī)第三方檢測報告讓客戶更加信賴自己的產(chǎn)品質(zhì)量,讓自己的產(chǎn)品更具有說服力。
研發(fā)使用:擁有優(yōu)秀的檢測工程師和先進的測試設(shè)備,可降低了研發(fā)成本,節(jié)約時間。
司法服務(wù):協(xié)助相關(guān)部門檢測產(chǎn)品,進行科研實驗,為相關(guān)部門提供科學(xué)、公正、準確的檢測數(shù)據(jù)。
大學(xué)論文:科研數(shù)據(jù)使用。
投標:檢測周期短,同時所花費的費用較低。
準確性高;工業(yè)問題診斷:較短時間內(nèi)檢測出產(chǎn)品問題點,以達到盡快止損的目的。
北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所承諾:我們將根據(jù)不同產(chǎn)品類型的特點,并結(jié)合不同行業(yè)和國家的法規(guī)標準,選擇適當(dāng)?shù)臋z測項目和方法進行分析測試,或根據(jù)您的要求進行試驗分析。為了不斷改進我們的工作,我們致力于提高產(chǎn)品質(zhì)控分析、使用性能檢測能力,并持續(xù)加強我們團隊的科研技術(shù)。同時,我們將積極跟進新的技術(shù)和標準,以最大程度地滿足您的需求和市場要求。
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